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              美國全面卡死2nm?不準賣到中國大陸

              2022-08-03 來源:互聯網亂侃秀
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              關鍵詞: 臺積電 半導體 光刻機

              眾所周知,三星在3nm芯片時,采用了GAAFET晶體管技術,這是相對于FinFET晶體管更先進的技術。

              GAAFET晶體管技術為何更先進?原因在于GAAFET提供比FinFET更好的靜電特性,在同等尺寸結構下,GAA 的溝道控制能力強化,尺寸可以進一步微縮,同時電壓降低。

              這就使得GAAFET晶體管,可以密度更高,同時電壓更低,這樣性能更強,功耗降低。

              雖然目前在3nm技術上,三星使用GAAFET技術,而臺積電使用FinFET技術,但到2nm時,不管是臺積電,還是三星,或者intel都會使用GAAFET技術,因為FinFET技術,已經無法再微縮,實現不了2nm。

              可以說,只要卡住GAAFET晶體管技術,就相當于卡住了2nm芯片技術。

              而近日,外媒Protocol報道,美國準備對用于設計半導體的特定類型EDA軟件實施新的出口限制。

              按照報道,美國計劃將使用于“Gate-all-around”(環繞柵極,GAA)新技術制造芯片所必需的EDA軟件,列入禁止出口的清單中,不準賣到中國大陸來。

              以往美國在芯片制造上,主要針對的是制造業,即不允許賣先進的半導體設備到中國大陸來,比如EUV光刻機等。

              現在要禁止EDA工具,則意味著不僅是針對晶圓制造企業,針對的還有芯片設計企業了,因為沒有EDA工具,在現在這樣的情況下,再牛的芯片設計企業,也設計不出芯片來。

              而目前EDA基本上是被Synopsys、Cadence和西門子EDA這三家巨頭壟斷的,特別是先進的設計工具。

              而國產EDA,一方面是支持的工藝不夠先進,二是流程不夠齊全,所以在國內市場,這三大巨頭也占了90%市場。

              一旦用于GAAFET芯片技術的EDA被禁,那意味著不僅國內的晶圓制造進入不了2nm,連設計都卡住了,除非國產EDA跟上來,能夠支持GAAFET技術。



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