國內首款！華中大團隊成功研發計算光刻EDA軟件

近日，華中科技大學機械學院劉世元教授團隊成功研發出我國首款完全自主可控的OPC軟件，并已在相關企業實現成果轉化和產業化，填補了國內空白。

光刻成像原理圖（Source：華中科技大學）

劉世元介紹，光刻是芯片制造中最為關鍵的一種工藝，就是通過光刻成像系統，將設計好的圖形轉移到硅片上。隨著芯片尺寸不斷縮小，硅片上的曝光圖形會產生畸變。

在90nm甚至180nm以下芯片的光刻制造前，都必須采用一類名為OPC（光學臨近校正）的算法軟件進行優化。沒有OPC，所有IC制造廠商將失去將芯片設計轉化為芯片產品的能力。

計算光刻OPC原理圖（Source：華中科技大學）

目前，全球OPC工具軟件市場完全由Synopsys、Mentor、ASML-Brion等三家美國公司占領。

劉世元是華中科技大學集成電路測量裝備研究中心、光谷實驗室集成電路測量檢測技術創新中心主任。

研制的儀器、軟件、測量裝備等多項成果已實現成果轉化和產業化，在中芯國際、長江存儲、華為、京東方、華星光電等微電子、光電子龍頭企業獲得批量應用。