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              華為即將推出12nm和14nm芯片?

              2023-01-04 來源:互聯(lián)網(wǎng)亂侃秀
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              關(guān)鍵詞: 集成電路 華為海思 TSMC

              過去一個月,全球媒體一直在猜測華為新的芯片組制造專利,今年可能會有很多專利,例如最新的12nm和14nm芯片組。

              據(jù)知名微博爆料者透露,12nm和14nm芯片組的首次量產(chǎn)正在籌備中。爆料者透露,其中的某組芯片已經(jīng)在內(nèi)部使用。

              鑒于線人提供的華為信息,這些12nm和14nm芯片組可能由中國大陸晶圓廠制造。

              這是一個振奮人心的消息,無論是對華為還是對中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè),都將從中受益。

              華為擁有最大的智能可穿戴產(chǎn)品組合,有很多設(shè)備可以使用這種類型的半導(dǎo)體芯片。

              得益于子公司海思(HiSilicon)多年的研究,華為擁有最先進(jìn)的芯片設(shè)計(jì)技術(shù)。

              爆料者評論說,高級芯片組的工作正在進(jìn)行中,我們必須等到 2024 年才能匹配到移動應(yīng)用處理器制程節(jié)點(diǎn),今年肯定不會出現(xiàn)高級芯片組。


              麒麟芯片庫存耗盡

              目前,華為的麒麟芯片庫存已經(jīng)用完,該公司只能依靠高通為智能手機(jī)提供新芯片。

              這種情況起源于美國禁令之后,從那時起,華為就無法通過臺積電等晶圓代工廠生產(chǎn)先進(jìn)制程芯片。

              但華為正在重塑其供應(yīng)鏈,并試圖將新的合作伙伴聚集在一起,以解決當(dāng)前的手機(jī)芯片問題。

              知情人士透露,為加快芯片生產(chǎn),華為正在與同樣被美國政府列入黑名單的本土芯片制造商合作,甚至重新設(shè)計(jì)部分核心芯片,如此華為就能以較成熟技術(shù)生產(chǎn)芯片。

              消息人士說,華為不是從零開始建立自己的芯片工廠,而是在政府支持下,派員工協(xié)助當(dāng)?shù)貛准倚酒圃焐倘谫Y、采購及營運(yùn)。知情人士表示,其目的是建立不會被美國干預(yù)的生產(chǎn)線。

              雖然美國已授予出口許可,允許美企向華為提供一些沒那么敏感的芯片,但該公司仍坦承受美國制裁影響,并表示需要許多耐心修補(bǔ)供應(yīng)鏈弱點(diǎn)。

              消息人士透露,華為的優(yōu)先事項(xiàng),是生產(chǎn)用于電信設(shè)備與汽車業(yè)務(wù)的芯片,縱然一開始芯片比不上愛立信、三星電子等競爭對手。

              華為聚焦于電信設(shè)備芯片,部分原因是這些芯片的技術(shù)要求,比智能手機(jī)等消費(fèi)者設(shè)備低。這些芯片通常不需要那么小或節(jié)能,且數(shù)量小很多。

              四名知情人士表示,華為也與深圳等地幾家規(guī)模較小芯片廠聯(lián)手。目前,公開紀(jì)錄并未顯示華為已投資這幾家公司。

              兩名消息人士說,華為現(xiàn)在的目標(biāo),是將一些存儲芯片產(chǎn)線,改成可生產(chǎn)處理器和其它邏輯芯片的產(chǎn)線。


              技術(shù)自給自足又進(jìn)一步

              光刻機(jī)是芯片制造中使用的最復(fù)雜和最昂貴的機(jī)器之一。華為已經(jīng)為 EUV 光刻系統(tǒng)中使用的一種組件申請了專利,該系統(tǒng)需要在亞 10nm制程節(jié)點(diǎn)上制造高端處理器,它解決了紫外線產(chǎn)生的干涉圖案問題,否則會使晶圓不均勻。

              華為解決了芯片制造最后一步由極紫外(EUV)光的微小波長引起的問題。它的專利描述了一組鏡子,這些鏡子將光束分成多個子光束,這些子光束與它們自己的微鏡發(fā)生碰撞。這些鏡子中的每一個都以不同的方式旋轉(zhuǎn)以在光線中產(chǎn)生不同的干涉圖案,因此當(dāng)它們重新組合時,干涉圖案相互抵消以產(chǎn)生一束均勻的光束。

              EUV 光刻系統(tǒng)目前由荷蘭公司 ASML 獨(dú)家制造。EUV 光刻依賴于與舊形式光刻相同的原理,但使用波長約為 13.5 nm 的光。

              ASML需要超過 60 億歐元和 17 年的時間來開發(fā)第一批可以銷售的 EUV 光刻機(jī)。但在它們完成之前,美國政府向荷蘭政府施壓,要求其禁止向中國出口,限制該國使用較舊的 DUV(深紫外線)技術(shù)。目前,只有五家公司正在使用或已宣布計(jì)劃使用 ASML EUV 光刻系統(tǒng):美國的英特爾和美光,韓國的三星和 SK 海力士,以及臺積電。

              像華為這樣的中國公司以前能夠?qū)⑺麄兊脑O(shè)計(jì)發(fā)送到像臺積電這樣的晶圓廠,以使用 EUV 光刻進(jìn)行制造,但自從美國對中國實(shí)施制裁以來,這種可能性越來越小。華為需要訪問使用 EUV 光刻的高級節(jié)點(diǎn),以繼續(xù)改進(jìn)其定制處理器,這些處理器面向從智能手機(jī)到數(shù)據(jù)中心的所有領(lǐng)域。不過,華為在制造自己的 EUV 系統(tǒng)之前還有很長的路要走。



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