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              芯片產業又遭圍剿!如果日本限制對我國出口,影響有多大?

              2023-02-06 來源:網絡整理
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              關鍵詞: 芯片 半導體 光刻機 IC設計

              近日,在芯片領域又有不好的消息傳出來,日本、荷蘭已與美國達成協議,同意限制向中國出口制造先進半導體所需的相關設備。



              看來我國芯片被卡脖子的情況,又蒙上了一層陰影。


              荷蘭阿斯麥公司,想必大家都聽說過,尤其是它家最強的EUV極紫外光光刻機,是全球唯一一家能夠供應7納米及以下芯片制程的光刻機,屬于獨霸全球的地位。



              那隔壁的日本呢?千萬不要以為日本的半導體產業落寞了,就在美國大舉封殺中國半導體產業的同時,中國從日本市場獲取了不少半導體設備。


              日本芯片材料


              半導體產業鏈是非常龐大的系統,主要有原材料、半導體設備、IC設計、晶圓制造、封裝測試等細分領域。


              其中,半導體設備方面,歐美日占據大部分市場份額;IC設計方面,美韓歐位居產業鏈頂端。



              而晶圓制造方面,中國臺灣的臺積電占據半壁江山;封測領域方面,中國大陸、中國臺灣及美國都排名前列。


              很多人不了解的是,在半導體原材料領域,日本是當之無愧的強國,擁有旭化成、揖斐電、昭和電工、信越化學、富士膠片、住友化學、JSR等一大批實力強勁的半導體材料企業。



              說到材料,就不得不提到一種叫做光刻膠的東西,它是一種在紫外光等光照或輻射下,溶解度會發生變化的薄膜材料。


              在光刻機工作的時候,首先將光刻膠涂在硅片上形成一層薄膜,通過一系列復雜的曝光裝置進行曝光后,光線會被投射到光刻膠上。



              此時曝光區域的光刻膠,會發生化學變化,在隨后的化學顯影過程中被去除,最后掩模的圖案就被轉移到了光刻膠膜上。


              隨后通過一系列的工藝加工后,光刻膠上的圖案就被轉移到下層的薄膜上,再經過多次迭代以及多種物理過程,便產生集成電路。



              舉個形象的比喻:如果說光刻機是推動制程技術進步的“引擎”,那么光刻膠就是這部引擎的“燃料”。


              就算引擎再好,如果燃料里面雜質太多,引擎也轉得不快。正因如此,就算有最牛的極紫外光EUV光刻機,如果沒有好的光刻膠輔助,最終芯片的光刻精度還是不行。


              毫不夸張的說,光刻膠對集成電路的性能、成品率以及可靠性,起到了非常大的影響。



              按照曝光波長分類,光刻膠可分為 UV: i/g型光刻膠,波長大于300nm;DUV: KrF型光刻膠,波長248nm, 和ArF型光刻膠,波長193nm;以及最新的極紫外: EUV光刻膠,波長進一步降低至28納米以下。


              從整體業態來看,目前全球光刻膠市場高度集中,日美把控著絕大部分市場份額。


              其中日本的JSR、東京應化、信越化學及富士膠片四家企業占據了全球70%以上的市場份額,壟斷地位穩固,尤其在高端EUV市場高度壟斷,擁有絕對的話語權。



              國內光刻膠方面,目前僅實現了KrF光刻膠的量產。


              而且ArF光刻膠產品,仍處于下游客戶驗證階段并未形成實際量產產能,而最高端的EUV光刻膠的技術儲備,非常慘烈,還處于近乎空白的地步。


              日本光刻膠發展史


              那么日本光刻膠,是如何發展到如今壟斷地步的?


              光刻膠的發展,是伴隨著光刻機的。換句話說,只有光刻機先被發明出來,光刻膠才會像畫龍點睛一般的,給芯片的精度帶來不少的提高。



              雖然美國在上個世紀60年代就開始搗鼓光刻機了,也擁有GCA、Ultratech和P&E三大光刻巨頭,幾乎壟斷了全世界的市場。


              但是后來卻被一個賣照相機的日企打敗,沒錯,這個日企就是尼康,至于為什么會失敗?其實原因也很簡單,雖然這些巨頭實力非常強大,但核心鏡頭還是采購別人的。



              而尼康本來就是做照相機的,鏡頭技術那必然是爐火燉青,自給自足完全沒有問題。


              再加上自己對技術上的工匠精神,各項功能都追求極致,最終順理成章地開始蠶食美國的市場份額。至于后來阿斯麥的崛起,那是后話了。


              反正日本光刻機無敵后,就開始搗鼓光刻膠,也涌現出了一批光刻膠企業。



              比如在1995年,東京應化率先研發出KrF光刻膠并實現大規模商業化,標志著光刻膠正式進入日本廠商的霸主時代。


              2011年,JSR與SEMATECH更是聯合開發出EUV光刻膠,已經站上了金字塔的頂端。



              光刻膠看似簡單,其實是需要大量資金投入和產業配合的,需要反復實驗和工業化制備。即使工藝向前進幾微米,那也需要跨越非常大的鴻溝。


              日本正是憑借著多年在光刻膠上專利積累、技術跟行業經驗,才可以在全球光刻膠市場上屹立不倒,并占據了領先地位。



              說個數據吧,全球光刻膠第一大技術來源國為日本,專利申請量占全球光刻膠專利總申請量的46%;美國則以25%的申請量位列第二;中國則以7%的申請量排在韓國之后。


              其他國家想要日本的光刻膠,不好意思,價格他說了算。關系好還行,關系不好,那就只能慢慢等。


              結尾


              2021年,中國進口芯片共花費4326億美元,遠遠大于石油的進口額。


              對于美國而言,芯片是自己為數不多的還能牟取暴利的商品了,肯定是不能輕易放棄的。所以老美才會強烈要求荷蘭、日本對中國禁售光刻機以及相關設備。



              這次看來,在芯片領域,日本掌控原料,荷蘭掌控設備,就是要對我們搞雙殺式圍剿。


              雖然目前國內光刻膠整體產業鏈都比較薄弱,供應鏈整合能力不強,核心原材料的國產化率也不高,但國內光刻膠企業們并沒有放棄,而是一直在精益求精。



              以目前南大光電、徐州博康、上海新陽、北京科華等光刻膠企業的進度來看,KrF光刻膠有望成為光刻膠國產替代的下一個主戰場。


              一旦KrF光刻膠被攻克后,前面還有ArF和EUV光刻膠兩座大山,雖然道路還很長,但面對國外的封鎖跟打壓,現在留給我們的就只有一條路。



              那就是丟掉幻想準備戰斗,能把老美逼到這份上,說明我們路徑方向是對的,后面就是力度和機遇的問題了,所以芯片國產化之路任重而道遠。



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