國產14納米芯片的推出，或代表著7納米國產化都有了希望

國產28納米光刻機一直備受關注，因為這代表著浸潤式先進光刻機能否量產的問題，近日有國產手機即將發布的新款手機了14納米芯片，或許就代表著浸潤式光刻機真正量產并已投入使用。

一、國產14納米芯片的意義

由于眾所周知的原因，國內芯片制造企業采用ASML的14納米光刻機以及進口光刻膠等材料是不能為該企業代工生產芯片的，如今它的14納米芯片被用在手機上，就意味著至少28納米光刻機以及光刻膠等材料都已經實現了國產化。

國內早就盛傳國產28納米光刻機已通過了技術驗證，這么長時間過去，沒有新的消息，或許就是在推進量產，該國產14納米芯片的推出應該就代表著該款國產28納米光刻機已投入生產。

28納米光刻機的量產，對于國產先進光刻機具有重要的指標意義，因為在28納米及以下的光刻機都需要用到浸潤式光刻技術，有了浸潤式光刻技術，再量產14納米浸潤式光刻機就不會有太大問題，28納米光刻機、14納米光刻機都是采用相同的光源，技術原理大都相通。

28納米光刻機的量產代表的另一重意義則是國產光刻機產業鏈已經完善，由于眾所周知的原因中國如今不僅無法進口14納米以下的光刻機，連先進光刻機的相關元件都無法進口，這迫使中國自行完善光刻機產業鏈，這也是國產光刻機需要如此長時間才能量產的原因。

此前國產芯片八大制造環節，諸多環節都已突破到14納米，刻蝕機、封裝技術更是已進展到5納米，如今先進光刻機的量產，整條芯片制造產業鏈終于打通，中國的芯片制造將不再受制于人。

二、國產7納米有了希望

量產28納米光刻機，對于國產當前需求迫切的7納米工藝來說，可以打開了全新的局面。7納米工藝并非必須有EUV光刻機才能量產，臺積電最早的7納米工藝就是以14納米浸潤式光刻機實現的，只不過14納米光刻機量產的7納米工藝性能不夠強、成本高了一些罷了。

國內的光刻機突破到28納米工藝，解決了關鍵的浸潤式技術，那么14納米光刻機已為時不遠，這與此前相關專家強調只要兩三年時間中國就能生產先進的14納米光刻機相對應，可能當時這些專家就已得到相關的消息，才如此表態。

光刻機巨頭ASML也曾表示即使將光刻機圖紙交給中國，中國也無法生產先進的14納米光刻機，但是后來卻很快改口，認為中國能遲早生產出先進光刻機，作為行業巨頭有更暢通的信息獲取方式，它應該也是從一些信息得出中國在先進光刻機方面取得了技術進展。

14納米已能滿足國內芯片七成的需求，7納米則能滿足國內九成的芯片需求，國產先進光刻機的快速進展，顯然出乎美國的意料。正如美國富豪比爾蓋茨所言，美國限制不了中國發展先進芯片技術，如今這一切都印證了比爾蓋茨的預言。

這幾年中國芯片的進展相當迅速，芯片日產能突破10億顆，芯片自給率提升至三成以上，這是在現有主要以28納米工藝為主的情況下取得了，更先進工藝的進展，將推動國產芯片的自給率進一步提升，如此預計2025年實現七成芯片自給率的目標已有了實現的希望。

在現有技術的基礎上，中國對海外芯片的需求就在快速下滑，2022年中國芯片進口量減少了15%，今年前兩個月中國的芯片進口量更是減少了26.5%，國產芯片替代加快已給美國芯片造成了巨大打擊，美國芯片或是出現虧損，或是陷入衰退，接下來它們必然將承受中國芯片更大的打擊。