俄羅斯吹牛：投9億元，2028年研發(fā)出7nm芯片光刻機

眾所周知，目前全球能夠研制出用于芯片制造的光刻機的廠商，只有四家，分別是荷蘭的ASML、日本的尼康、佳能，以及中國的上海微電子。

其中荷蘭最牛，只有它一家能夠生產(chǎn)EUV光刻機，也就是用于7nm及以下的芯片制造，而尼康、佳能、上海微電子相對差一些。

事實上，如果這些光刻機能夠公平公正的對外銷售，那么大家也不必過于擔憂，不就是錢的事情嘛，一臺EUV光刻機，幾億，十幾億，掏錢買就是了。

但問題是，EUV光刻機，甚至是低一檔的浸潤式光刻機，都是受管制的，比如中國大陸就買不到，另外像俄羅斯等國也是買不到的，因為美國不準ASML賣。

所以像中國、俄羅斯等，必須自研光刻機，甚至要自研出EUV光刻機這種級別的，能夠用于7nm以下芯片制造的光刻機，才能掌握主動權，不被美國卡脖子。

俄羅斯的X射線光刻機原理

所以我們看到，國內(nèi)在努力的研發(fā)光刻機，爭取早日攻克浸潤式光刻機，甚至EUV光刻機，以期突破美國+ASML對我們的封鎖。

而俄羅斯也是在不斷的努力，想在自研出高端光刻機來，去年就傳出消息稱，俄羅斯要研發(fā)X-射線光刻機，用于對抗ASML的EUV光刻機。

而近日，再次傳出消息，俄羅斯科學院發(fā)豪言稱 2028 年自行研發(fā)的光刻機將問世，可生產(chǎn)出 7nm 芯片。

為此，俄羅斯還向此項目提供約 100 億盧布（約9億元人民幣）信貸支持，而受資助企業(yè)包括集成電路成套工藝領域的 Integral 和精密光刻設備領域的 Planar。

不過目前俄羅斯科學家并沒有詳細說，這個可生產(chǎn)出7nm芯片的光刻機，究竟是何種技術，是EUV，還是NIL，或者X射頻、DSA自組裝、甚至是BEL電子束技術等。

當然很多人表示不相信，覺得目前俄羅斯是在吹牛，因為俄羅斯目前在半導體產(chǎn)業(yè)上是相當落后的，甚至遠遠落后于中國，中國投了這么多錢，這么久了，還沒研發(fā)出可生產(chǎn)7nm芯片的光刻機。

再加上現(xiàn)在美國以及西方團體，在半導體領域是全面制裁俄羅斯，俄羅斯怎么可能實現(xiàn)這個目標呢？

但夢想還是要有的，萬一實現(xiàn)了呢？而一旦俄羅斯搞定7nm光刻機，對于我們而言，也是一件大好事，俄羅斯的光刻機肯定是能夠賣給我們的，你覺得呢？

當然，俄羅斯能不能研發(fā)出，都不影響我們的研發(fā)進度，我們必須要研發(fā)出自己的EUV級別的光刻機才行，別人有，不如自己有，這樣主動權才在自己手中。