擴大到45nm工藝？日本的半導體限制令，比美國還要狠

眾所周知，前段時間有媒體報道稱，美國聯手日本、荷蘭，對中國的半導體進行圍堵。

后來日本在4月份，正式提出了半導體限制令，針對23種半導體設備進行了限制，涉及到3項清洗設備、11項薄膜沉積設備、1項熱處理設備、4項光刻設備、3項刻蝕設備、1項測試設備。

當時說的是，最快這項政策可能會在7月份執行。而昨天這項法規正式通過了，在7月23日起正式執行。

被日本列入管制的這23個種類，不管對哪一個國家和地區，只要出口，都需要日本政府給的單獨許可證才能出口，日本表示，這不是特意針對哪一個特定的國家和地區，所有國家都一樣的。

但明眼人都清楚，這不可能針對美國吧，針對的當然是中國、俄羅斯等美國要打壓的國家，因為日本是美國的小弟，聽的就是美國的話。

并且日本的這個限售令，與ASML的光刻機不一樣，ASML只針對先進工藝，其浸潤式光刻機中，只有NXT:2000i及之后的浸沒式光刻系統將會受到出口限制。

而像NXT:1980Di 這樣的浸潤式光刻機，還可以出口，它可以最高用于7nm芯片的光刻。同時美國針對中國的半導體產業，更多的還是只針對14nm以下的先進工藝。

但是日本的這23個種類的產品中，已經涉及到45nm工藝了，比ASML、美國的限售令，更為嚴格和范圍廣。

當然，日本也沒說不能賣，只是說想從日本進口這些設備，需要單獨的許可證，需要日本政府的審批才行，但能不能拿到許可證，還不是日本說了算？

這對于中國的半導體產業而言，將會是一個巨大的隱患，畢竟以往我們從日本進口的半導體設備，就牽涉到了這23項中的許多項，以后進口就沒這么容易了，能不能買到，都是未知數了，可見半導體設備、半導體材料，我們都需要獨立自主才行，依賴其它國家都不行。