中國從日本進口的光刻膠，占比超過50%，國產率不足10%

近日，海關公布了感光化學品（主要指光刻膠）的相關進口數據。

數據顯示，2023年1-6月份，我們從日本進口的感光化學品金額為5.47億美元，同比下降9.1%，占所有感光化學品比例約為51%。

而在2022年的時候，我國感光化學品進口總額23.50億美元，從日本進口額12.05億美元，占比51.3%。

也就是說，最近一年多以來，中國的光刻膠進口中，有一半多來自于日本，中國高度依賴日本的光刻膠。

事實上，不只是這一年多以來，統(tǒng)計最近10年以來，日本光刻膠進口占比，一直就超過50%，日本一直是我國感光化學品進口的第一大來源國。

不僅中國高度依賴日本的光刻膠，可以說全球都依賴日本的光刻膠，包括美國、韓國、歐洲等。

光刻膠是芯片光刻工藝中最主要的、最關鍵的材料。

按照種類可以分為G線光刻膠（436nm）、I線光刻膠（365nm）、KrF光刻膠（248nm）、ArF光刻膠（193nm）、EUV光刻膠（13.5nm）這么幾種。

而這幾種光刻膠對應的芯片工藝是>0.35um、>0.35um、0.15-0.25um、7-130nm、<7nm。

很明顯，光刻膠與光刻機一樣，是一一對應的，其中像ArF光刻膠，也分為兩種，干法主要用于130-65nm工藝，浸沒式主要用于65-7nm工藝。

而目前全球光刻膠市場主要被日本和美國公司壟斷，日企全球市占率約80%，處于絕對領先地位。

而從具體的光刻膠類型來看，在g線/i線、KrF、ArF、EUV光刻膠市場中，日本企業(yè)的市占率分別為61%、80%、93%，100%。

而中國這4種光刻膠的自給率約為30%、5%、1%、0%，可見基本上都要進口，只有最為落后的g線/i線才表現(xiàn)不錯，而越先進的光刻膠，自給率就越低，EUV這種直接無法制造。

對此，不知道大家怎么看？在芯片制造的過程中，光刻機這樣的設備不可缺少，而光刻膠這種材料，也是不可缺少。

所以，我們在關注光刻機等各種半導體設備時，也同樣應該多關注光刻膠這種材料，只有設備、材料全突破了，才能真正不被卡脖子。