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              HARMAN全新JBL頭戴式耳機采用艾邁斯半導體自適應主動降噪技術,實現出色音頻性能

              2021-04-19 來源:中電網
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              全新的JBL Tour ONE產品首次在頭戴式耳機中應用了艾邁斯半導體的自適應泄漏補償(ALC,一項之前已應用于真無線耳塞的技術),可在各類使用條件下提供始終如一的出色降噪性能;

              ·  自適應主動降噪技術實現實時降噪;

              ·  艾邁斯半導體的音頻技術幫助HARMAN的Tour ONE產品獲得商務專業人士的青睞,為其提供先進、智能和時尚的耳機。


              全球領先的光學解決方案供應商艾邁斯半導體(ams AG,瑞士股票交易所股票代碼:AMS)今天宣布,其自適應泄漏補償(ALC)降噪技術已被HARMAN公司應用于屢獲殊榮的全新頭戴式耳機---JBL? Tour ONE。除了JBL之外,HARMAN還是AKG?和Harman Kardon?等發燒友和音樂家所鐘愛的音頻品牌所有者。


              Tour ONE產品面向尋求出色降噪技術和優雅設計的商務專業人士。該耳機的自適應主動降噪技術可監聽周圍的聲音,并針對用戶的環境提供合適的降噪水平,從而實現實時降噪。耳機還配備SilentNow功能,用戶只需觸摸專用按鈕,就能在不激活藍牙模式的情況下激活主動降噪模式,由此完全隔離外界噪聲。JBL Tour ONE耳機已獲得CES? 2021的“最佳創新獎”。


              艾邁斯半導體全球銷售與營銷部執行副總裁Pierre Laboisse指出:“艾邁斯半導體的ALC技術在打造JBL耳機的特殊體驗中起到重要作用。在室內外條件下,即使用戶將耳機與其他頭飾配合使用,也能隔絕外界噪音?!?/p>


              ALC技術的開拓性應用

              HARMAN將自適應主動降噪技術引入JBL頭戴式耳機,擴展了艾邁斯半導體音頻技術和產品的應用范圍。之前ALC技術已經應用在包括半入耳式耳機在內的各類耳塞中,能夠自適應耳塞在耳朵中的位置移動,實現始終如一的高噪聲衰減。


              現在,HARMAN在JBL Tour One中采用艾邁斯半導體ALC技術,以在頭戴式耳機中提供相似的一致性和高降噪。傳統的頭戴式耳機配置單個固定的降噪濾波器,僅能在耳罩完全貼合耳朵時提供好的降噪性能。而采用ALC技術的Tour One耳機可根據麥克風檢測到的噪聲變化計算實際的貼合程度,進而自動調整濾波器。


              即使在耳罩貼合度不足(例如長發或戴著眼鏡、帽子)的情況下,耳機也能保持出色的降噪效果。此外,這一技術極其靈活,可以匹配耳機耳罩柔軟材料的差異,并根據用戶頭部的大小和形狀進行自適應調整。


              艾邁斯半導體團隊與HARMAN的工程團隊密切合作,將ALC算法的操作與Tour ONE耳罩的聲學特性相匹配。參與了Tour ONE設計開發的艾邁斯半導體的AE經理Martin Schoerkmaier解釋這項技術的主要特點以及HARMAN是如何出色地應用:“產生一致的降噪效果是可行的,但是您需要是自適應而不是固定濾波器的降噪。用戶越來越多地意識到,在使用傳統的頭戴式耳機時,如果離開最佳設計使用條件,就會立即發現降噪效果的明顯差異?!?/p>


              可靠的數字聽覺增強引擎

              JBL Tour ONE中ALC技術實現基于艾邁斯半導體AS3460數字聽覺增強芯片。AS3460結合了高保真揚聲器驅動和復雜的數字音頻處理器,不僅實現了ALC和自動預設選擇算法,還能提供出色的主動降噪(ANC)性能。AS3460可在16Ω負載下提供高達50mW的輸出功率,最大信噪比為110dB。


              AS3460上運行的艾邁斯半導體自動和聽覺增強算法現已可用于所有耳機和耳塞形態。


              艾邁斯半導體的優勢

              艾邁斯半導體在開發突破性音頻技術方面擁有悠久的歷史。十多年來,除了數字聽覺增強技術外,降噪耳機制造商一直使用艾邁斯半導體的模擬ANC芯片,借以在降噪深度、寬度以及超低功耗方面保持領先水平。艾邁斯半導體還致力于為耳機制造商提供專業知識與經驗,幫助他們優化產品設計的聲學、機械結構和電氣性能,從而鞏固自己的市場地位。


              Harman Kardon和JBL是HARMAN International Industries,Incorporated在美國和/或其他國家/地區的注冊商標。AKG是AKG Acoustics GmbH在美國和其他國家/地區的注冊商標。



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