百納米工藝提升性能三千倍，中國芯片彎道超車，外媒：擋不住了
清華大學戴瓊海院士研發出了芯片的全新架構--光電模擬芯片（ACCEL），掙脫了美國摩爾定律的限制，以現有的百納米級別工藝卻能達到7納米工藝的性能，為中國芯片技術開辟了新道路。
據了解ACCEL芯片的光學芯片部分只要采用百納米級別工藝，而電路部分更是可以采用180納米CMOS工藝就能生產這種芯片，用如此落后的工藝卻能將芯片性能提升3000倍，與當前的7納米工藝芯片性能相當。
尤為難得的是用如此落后的工藝，卻能擁有超低的功耗，它的功耗只有現有硅基芯片的400萬分之一，這樣的超低功耗對于芯片行業具有極為重要的意義。
耗電已成為當下數據中心最頭疼的問題，據分析數據指出數據中心的電力當中有七成耗電浪費在芯片發熱以及為散熱而建設的空調系統上，為了降低電力消耗，微軟將數據中心建在海底，Facebook將數據中心建設在北極圈。
ACCEL芯片的超低功耗，可以大幅降低耗電量，一旦這種芯片實現商用，數據中心將無需再建設空調系統，也無需再選擇在低溫的北極圈建設，而且還能大幅節省數據中心占用的土地。
ACCEL芯片對中國芯片行業來說尤為重要，由于中國芯片產業鏈發展較晚，因此中國在推進先進工藝發展方面一再受制于海外芯片設備。
7納米工藝以下需要EUV光刻機，而光刻機老大ASML至今都不允許對中國出售EUV光刻機，這已嚴重影響中國芯片產業的發展。
美國則借著對全球芯片行業的影響力，不僅限制先進芯片設備對中國的出口，還限制高端芯片對中國銷售，近期NVIDIA就連定制芯片A800、H800都不被允許對中國出售。
美國如此做，意圖阻止中國發展先進芯片，更要阻止中國在自動駕駛、人工智能等新興科技領域的發展，這些新興科技對于一個國家未來科技具有決定性影響。
ACCEL芯片讓這些問題都迎刃而解，芯片工藝將不再是中國芯片的障礙，國產的光刻機已在浸潤式光刻機方面突破，可以實現7納米工藝，如此ACCEL芯片采用國產工藝超越臺積電不是問題。
清華大學的介紹指出ACCEL芯片可以更好適應智能視覺任務和交通場景計算，它的計算能效比現有的AI芯片高出數百萬倍，在未來人工智能、自動駕駛數據噴發階段可以解決信息爆炸帶來的問題。
近幾年來中國一直都在努力研發芯片的新技術路徑，除了ACCEL這種光電模擬芯片之外，中國還在研發量子芯片等先進芯片技術，籌建了全球第一條光子芯片、量子芯片生產線，ACCEL芯片技術為這些先進芯片技術與現有的硅基芯片技術融合提供了啟發，將加速中國新芯片技術的發展。
