確認！ASML浸潤式DUV光刻，EUV光刻機，正式斷供！

眾所周知，目前的芯片制造，基本上是基于光刻工藝，所以必須用到光刻機。

而光刻機又芯片工藝制程對應，如下力所示，比如G線、i線對應的是350nm及以上的芯片工藝，而KrF對應的是350-130nm。

ArF對應的是130-65nm；而ArFi是ArF的改進版，也稱之為浸潤式DUV光刻機，對應的是65-7nm；EUV是極紫外線光刻機，對應的是7nm以下。

目前，全球的光刻機市場，主要被荷蘭的ASML壟斷，ASML一家就占了全球90%的份額。其中先進的ArFi光刻機，ASML占了95%，EUV光刻機，ASML占了100%。

日本的尼康、佳能更多的只是ArF、KrF這些較為成熟的光刻機，佳能沒有ArFi光刻機，尼康沒有EUV光刻機，而ArFi光刻機，也非常少，主要市場還是ASML的。

而中國上海的微電子，水平還在ArF，工藝制程在90nm，所以國內(nèi)一直以來就是大量采購ASML的光刻機。

美國之前是不允許ASML的EUV光刻機賣到中國大陸來，所以至今為止，中國大陸的晶圓廠，都沒有EUV光刻機。

后來，美國更想鎖死中國大陸的邏輯芯片工藝在14nm，于是又聯(lián)手日本、荷蘭，對光刻機進一步限制。

其中日本表示所有的浸潤式光刻機，都不能出口到中國。而荷蘭的ASML則表示，所有的浸潤式光刻機中，只有一臺NXT:1985Di能出口。

后來在2023年10月份，美國禁令再次升級，ASML唯一一臺能夠出口的NXT:1985Di也被禁了，無法再出口到中國大陸來了。

不過ASML也稱，2023年他們還是拿到了許可證，所以2024年內(nèi)，所有的浸潤式光刻機都能夠賣到中國大陸來，但2024年開始，就不行了，所以目前ASML的浸潤式DUV光刻，EUV光刻機，正式斷供了。

所以我們看到，2023年內(nèi)，中國大陸在大量的從ASML進口光刻機，數(shù)據(jù)顯示，1-11月份，中國大陸向ASML進口的光刻機金額已經(jīng)超過了500億元，是2022年的3倍左右。

很明顯，中國大陸在趁著ASML還能出口浸潤式光刻機，瘋狂大采購，瘋狂囤貨，畢竟2024年開始，浸潤式光刻機就買不到了。

按照業(yè)內(nèi)人士的預測，今年從ASML采購的光刻機，理論上能夠支撐國內(nèi)3年左右的晶圓擴產(chǎn)需求，但3年之后，甚至也可能不需要3年，可能就會又缺光刻機了，特別是缺尖端光刻機了，比如ArFi、EUV這兩種。

所以接下來，國產(chǎn)芯片想要突破，就需要國產(chǎn)光刻機突破了，因為ASML短時間之內(nèi)，是拿不到出口許可證的，浸潤式ArFi光刻機、EUV光刻機應該只能靠我們自己，不要想著進口了。