2nm工藝志在必得 日本三大EUV光刻膠巨頭巨資擴產(chǎn)

11月3日消息，EUV工藝是5nm節(jié)點之后無法繞過的先進工藝，EUV光刻機只有荷蘭ASML能產(chǎn)，但日本在EUV光刻膠領(lǐng)域很有優(yōu)勢，針對2nm及以下節(jié)點，日本三大化工巨頭都在積極擴產(chǎn)。

日本半導(dǎo)體材料廠東京應(yīng)化工業(yè)（Tokyo Ohka Kogyo）日前宣布，將在韓國平澤投資200億日元，約合1.3億美元建設(shè)光刻膠工廠，預(yù)計2030年正式投產(chǎn)。

平澤是三星、SK海力士等韓國半導(dǎo)體公司的重要生產(chǎn)基地，該工廠投產(chǎn)后應(yīng)化工業(yè)在韓國的產(chǎn)能將翻三四倍，更好地滿足客戶需求。

此外，應(yīng)化工業(yè)還會在韓國再投資120億日元建設(shè)高純度化學(xué)廠，同樣會應(yīng)用先進半導(dǎo)體工藝，此舉被外界視為日本廠商積極擴產(chǎn)，提前部署2nm及更先進工藝的需求。

同樣是EUV光刻膠巨頭的JSR公司也會在韓國投資建設(shè)MOR型光刻膠工廠，而且明年底就會量產(chǎn)。

另一家百年老店Adeka阿德卡也將在日本投資擴產(chǎn)，花費32億日元在日本建設(shè)MOR型光刻膠工廠，預(yù)計2028年4月份量產(chǎn)。

MOR型光刻膠以金屬氧化物為基礎(chǔ)，主要是為EUV光刻工藝而研發(fā)的，國內(nèi)也在積極建設(shè)MOR光刻膠研發(fā)及生產(chǎn)線。

不過在半導(dǎo)體材料，尤其是光刻膠方面，日本公司長期占據(jù)世界91%以上的份額，雖然本土?xí)簳r沒有2nm工藝芯片廠，但他們積極布局海外，對2nm及以下的先進工藝一樣志在必得。