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              2022年全球刻蝕設備市場規模及結構預測分析(圖)

              2022-08-11 來源:中商產業研究院
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              關鍵詞: 半導體設備

              中商情報網訊:刻蝕制程位于薄膜沉積和光刻之后,目的是利用化學反應、物理反應、光學反應等方式將晶圓表面附著的不必要的物質去除,過程反復多遍,最終得到構造復雜的集成電路。按照刻蝕的工藝不同可以分為干法刻蝕和濕法刻蝕。


              市場規模

              全球刻蝕設備領域中,硅基刻蝕主要被 Lam 和 AMAT 壟斷,介質刻蝕主要被TEL和Lam壟斷。2020年全球刻蝕設備市場規模約為136億美元,同比增長23.64%。預計2022年將進一步增長至184億美元。

              數據來源:Gartner、中商產業研究院整理


              市場結構

              2020年介質刻蝕設備市場規模約 60 億美元,占整體市場的56%;導體刻蝕設備市場規模約 76 億美元,占整體市場的44%。

              數據來源:Gartner、中商產業研究院整理